研究各种各样的材料，并进行结构和成份表征，是目前对扫描电镜的主流应用要求。FEI Quanta FEG系列灵活、通用，足以应对当今人们广博的研究方向这一挑战。“分析任何样品，得到所有数据”，在Quanta FEG上可得到表面像和成份像，并可辅以多种附件来确定材料的性质和元素组成。

一、主要优点

1）世界上唯一具有环境扫描技术的高分辨场发扫描电镜

2）在各种操作模式下分析导电和不导电样品，得到二次电子像和背散射电子像

3）最大程度降低样品制备要求:低真空/环境真空技术使得不导电样品和/或含水样品不经导电处理即可直接成像和分析，样品表面无电荷累积现象

4）专利的“穿过透镜”的压差真空系统，对导电和不导电样品都可进行EDS/EBSD分析，不管是在高真空模式或在低真空模式。稳定的大束流(最大 200 nA)确保能谱及EBSD分析工作的快速、准确

5）电镜可作为一个微观实验室。安装特殊的原位样品台后，在从- 165 °C到1500 °C温度范围内，对多种样品保持其原始状态下进行动态原位分析

6）对导电样品，可选用减速模式得到表面和成份信息

7)直观、简便易用的软件，即使电镜新手也能轻易上手

二、典型应用:

1、纳米表征

1）金属及合金, 氧化/腐蚀, 断口, 焊点, 抛光断面, 磁性及超导材料

2）陶瓷, 复合材料, 塑料

3）薄膜/涂层地质样品断面, 矿物

4）软物质: 聚合物, 药品, 过滤膜, 凝胶, 生物组织, 木材

5）颗粒, 多孔材料, 纤维

2、原位过程分析

1）增湿/去湿

2）浸润行为/接触角分析

3）氧化/腐蚀

4)拉伸 (伴随加热或冷却)

5）结晶/相变

3、纳米原型制备

1）电子束曝光 (EBL)

2）电子束诱导沉积(EBID)

三、主要参数

1、电子光学

1）高分辨肖特基场发射电子枪

2）优化的高亮度、大束流镜筒

3）45°锥度物镜极靴，及“穿过透镜”的压差真空系统，加热式物镜光阑

4）加速电压: 200 V - 30 kV

5）束流: 最大200 nA并连续可调

6）放大倍数: 6 x 1,000,000 x (四幅图像显示)

2、分辨率

1）高真空

30 kV下0.8 nm (STEM)*

30 kV下1.0 nm (SE)

30 kV下2.5 nm (BSE)*

1 kV下3.0 nm (SE)

2）高真空下减速模式*

1 kV下3.0 nm (BSE)*

1 kV下2.3 nm (ICD)*

200 V下3.1 nm (ICD)*

3）低真空

30 kV下1.4 nm (SE)

30 kV下 2.5 nm (BSE)

3 kV下3.0 nm (SE)

4）环境真空 (ESEM)

30 kV下1.4 nm (SE)

3、检测器

1）E-T二次电子探头

2）大视场低真空气体二次电子探头 (LFD)

3）气体二次电子探头 (GSED)

4）样品室红外CCD相机

5）高灵敏度、低电压固体背散射探头*

6）气体背散射探头*

7）四分固体背散射探头*

8）闪烁体型背散射探头/CLD*

9）vCD (低电压、高衬度探头)*

10）镜筒内探头(ICD)，用于减速模式下二次电子检测*

11）电子束流检测器*

12）分析型气体背散射探头 (GAD)*

13）STEM探头*

14）Nav-Cam 光学相机彩色成像，用于样品导航*

15）阴极荧光探测器*

16）能谱*

17）波谱*

18）EBSD*

19）极靴底部安装四环分隔式定向型背散射电子探头 (DBS)

4、真空系统

1）1个 250 l/s 涡轮分子泵, 2个机械泵

2）专利的“穿过透镜”的压差真空系统

3）电子束在气体区域的行程：10 mm或2 mm

4）可升级成无油机械泵

5）2个离子泵

6）样品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa

7）样品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa

8）样品室真空度(环境真空模式) < 10 to 4000 Pa

9）典型换样时间: 高真空模式≤ 150秒；低真空及环境真空模式≤ 270秒 (FEI标准测试程序)

5、样品室

1）左右内径379mm

2）10 mm分析工作距离

3）10个探测器 / 附件接口

4）EDS采集角: 35°

6、样品台

1）X/Y = 150 mm

2）Z = 65 mm

3）Z向间隙93.5mm

4）倾斜：- 5° - + 70°

5）连续旋转360°

6）重复精度: 2 μm (X/Y方向)

7）伪全对中样品台